ZETA
+136
Karma
The sum of positive and negative reactions to the user's comments.
Visitor
{online_note}
Comments 466
В России завершили третий этап разработки опытного литографа для 130-нм чипов на пластинах 200 мм
1 week
китай скупает бу оборудование дорабатывает до рабочего что может. Они в одно свибло никогда не догонят TSMC об этом уже давно есть ролики разборы. Вообще ни одна страна в одного не чего не сможет подобного. Из за тысячи нюансов производства каждого отдельного компонента станка
«Мне становится не по себе»: в Apple объяснили, почему защитные стёкла на iPhone раздражают компанию
Load more
